遊離砥粒方式ワイヤソースラリからの砥粒、クーラント回収
装置の機能
半導体、太陽電池での遊離砥粒方式のウェハースライスにおける砥粒とクーラントの回収を実施します。装置には砥粒回収機構、クーラント回収機構、シリコン粒子排出機構、調合機構を保持しております。廃スラリー(砥粒+クーラント+シリコン)を受入、回収スラリー(砥粒+クーラント+砥 粒・クーラント補充)として調合し、再利用頂きます。
装置導入のメリット
- 膜分離を実施する事で遠心力にて取り除けない微細粒子を排除し、クーラント回収率を80%以上に高める事ができます。
- 砥粒回収率は85%以上となります。
- 遊離砥粒方式、固定砥粒方式の何れにも適合し、プロセス変更も柔軟に対応できます。
- 特殊遠心分離機を適用する事でシリコンを固形化(減溶)して排出可能です。固形化するため、その後の再利用も対応し易いです。
デカンター方式との比較
一次デカンター+二次デカンター | 一次デカンターのみ | NSR(一次遠心分離+二次遠心分離+膜) | |
---|---|---|---|
砥粒回収率(%) | 60~80 | 60~80 | 85以上 |
クーラント回収率(%) | 40~50 | 20~30 | 80以上 |
切粉除去率(%) | 40~50 | 80~90 | 80以上 |
フローシート
設置例
仕様
- 処理能力
- お客様のご要望に従い提案可能です。
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