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<ピューリア®>FX(type N)

遊離砥粒方式ワイヤソースラリからの砥粒、クーラント回収

装置の機能

半導体、太陽電池での遊離砥粒方式のウェハースライスにおける砥粒とクーラントの回収を実施します。装置には砥粒回収機構、クーラント回収機構、シリコン粒子排出機構、調合機構を保持しております。廃スラリー(砥粒+クーラント+シリコン)を受入、回収スラリー(砥粒+クーラント+砥 粒・クーラント補充)として調合し、再利用頂きます。

装置導入のメリット

  1. 膜分離を実施する事で遠心力にて取り除けない微細粒子を排除し、クーラント回収率を80%以上に高める事ができます。
  2. 砥粒回収率は85%以上となります。
  3. 遊離砥粒方式、固定砥粒方式の何れにも適合し、プロセス変更も柔軟に対応できます。
  4. 特殊遠心分離機を適用する事でシリコンを固形化(減溶)して排出可能です。固形化するため、その後の再利用も対応し易いです。

デカンター方式との比較

一次デカンター+二次デカンター 一次デカンターのみ NSR(一次遠心分離+二次遠心分離+膜)
砥粒回収率(%) 60~80 60~80 85以上
クーラント回収率(%) 40~50 20~30 80以上
切粉除去率(%) 40~50 80~90 80以上

フローシート

<ピューリア®>FX(type N)フローイメージ

設置例

<ピューリア®>FX(type N)設置外観

仕様

処理能力
お客様のご要望に従い提案可能です。

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